• 专利基本信息
  • 发明 2019112461181 一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法 2022

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    C04B38/06 C04B35/10 C04B35/622 C04B35/64

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    • 专利摘要

    本发明涉及多孔陶瓷材料技术领域,具体是一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法。其主要特征在于创新性设计出一种能在1200~1300℃范围内烧成氧化铝陶瓷的烧结助剂,该烧结助剂的添加使得氧化铝多孔陶瓷材料的烧成温度明显降低,有效节约烧结能耗和时间,为用在环保领域的氧化铝陶瓷膜的制造提供一种低温烧结的基材和膜层。该制备方法具有烧结温度低、生产能耗低、工艺方法简单、设备要求低、生产成本和投资成本低、控制灵活、成型容易、适合工业定制、满足规模化生产的特点。该方法生产的氧化铝陶瓷陶瓷膜具有亲水性好,渗透通量超大,孔隙率高、成品率高,耐酸碱性好、使用寿命长的特点。

    • 专利生命周期
    专利申请:2019-12-08
    专利授权日:2022-06-21 00:00:00.0
    最近更新时间:2024-08-30